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OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動(dòng)速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預(yù)熱爐（作用為使固體原料蒸發(fā)）和德國(guó)進(jìn)口的無(wú)油泵。此款PE-CVD對(duì)于生長(zhǎng)納米線(xiàn)或用CVD,方法來(lái)制作各種薄膜是一款新的探索工具。

OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)。此套設(shè)備帶有500W的等離子射頻電源，一個(gè)爐管直徑為50mm的開(kāi)啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個(gè)直聯(lián)式雙旋機(jī)械泵。因此這套設(shè)備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對(duì)于有限的經(jīng)費(fèi)的情況下來(lái)進(jìn)行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。

OTF-1500X-80-III-4CV-PE是一款三溫區(qū)1500℃的PECVD管式爐系統(tǒng)，它是由500W的射頻電源，1500℃三溫區(qū)管式爐、多通道質(zhì)子混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)對(duì)于生長(zhǎng)納米線(xiàn)、石墨烯或SiC薄膜是一個(gè)新的實(shí)驗(yàn)幫手。

OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） （等離子體化學(xué)氣相沉積）滑動(dòng)式開(kāi)啟式管式爐系統(tǒng)。此套設(shè)備帶有300W的等離子射頻電源，一個(gè)爐管直徑為50mm的開(kāi)啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和機(jī)械泵組成。因此這套設(shè)備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對(duì)于有限的經(jīng)費(fèi)的情況下來(lái)進(jìn)行材料探