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OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高溫高壓管式爐，其爐管法蘭上安裝有高壓電磁閥和壓力傳感器，所以當管內(nèi)氣壓高于設定值時，電磁閥會自動打開排氣，使管內(nèi)氣壓達到設定值。其爐管采用鎳基合金鋼管制作，其尺寸為30mm O.D x 12 mm I.D x 560 mm L。此款可在高壓氧環(huán)境或惰性氣體環(huán)境下對樣品進行熱處理，Z高溫度可達1100℃。所以特別是對于超導材料及介電材料的探索研究，

OTF-1200X-VTHPΦ60是一款雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有較高的蠕變強度和抗氧化性。爐管可承受的Z高溫度為1100℃（在此溫度下可承受的壓力為5MPa).此款設備適合用水浴法制備材料，也特別適合在高壓氧環(huán)境下對樣品進行熱處理。法蘭上安裝有電磁閥，當爐管內(nèi)壓力高于設定值時，電磁發(fā)自動打開排出氣體減小管內(nèi)氣壓。

OTF-1200X-HP-55是一款通過CE認證的開啟式管式爐，其爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，Z高壓力高達20MPa，Z高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品，這是一款理想的高溫管式爐。

OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，可承受的Z高溫度為1100℃。兩端法蘭上都安裝有石英窗口，可允許各種波長的光通過整個爐管。所以，此款管式爐特別適合在高溫高壓的環(huán)境下進行光學氣體分析實驗。

OTF-1200X-VHP4開啟式立式爐，標配dia4”石英管真空密封，20T電動壓力機。是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5噸壓力下可鍵合多層基片。爐子可以加熱到1100 oC并且30段程序控溫。帶水冷的法蘭可使真空度達到10-5Torr（用分子泵）。

OTF-1200X-Ⅱ-HVHP-80是一款通過CE認證的雙溫區(qū)高溫高壓管式爐，其爐管采用 SS310S鎳基合金鋼管(80mm O.D x 72 mm I.D x 1000 mm L) 爐管上已經(jīng)安裝法蘭和閥門，采用PID方式控溫，每個溫區(qū)可獨立控溫，它是專為使用在105 PSI高壓，可以通入氧化和惰性氣體氣氛下處理特殊的化合物，此款設備是款理想的設備，Z高真空度可以達到 10-5 torr 使